光化學(xué)方法殘氧儀TecScan頂空分析儀

更新時(shí)間：2022-06-08 點(diǎn)擊次數(shù)：1711

奧地利TecScan頂空分析儀殘氧儀光化學(xué)方法殘氧儀是奧地利兩位科學(xué)家發(fā)明的非接觸式頂空分析儀，無損殘氧儀，專門應(yīng)用在氣調(diào)包裝和制藥殘氧檢測行業(yè)，TecScan頂空分析儀殘氧儀光化學(xué)方法殘氧儀是MAP食品包裝廠和如大輸液，安剖瓶，抗生素，麻醉劑等藥品行業(yè)的殘氧檢測應(yīng)用。

· 光化學(xué)方法的頂空分析儀不僅可以測量氣體中的氧氣含量，還以測量液體中的氧氣含量。

· 傳感器通過光電化學(xué)點(diǎn)的透明包裝

· 光電化學(xué)點(diǎn)可作為粘合劑或打印點(diǎn)

· 無需氣體抽出– 對(duì)于小氣量和液體非常適合

· 光電化學(xué)點(diǎn)工廠校準(zhǔn)

· 自檢程序

· 測試時(shí)間 < 3s

· TecScan頂空分析儀殘氧儀光化學(xué)方法殘氧儀

性能	氣體	液體
測試范圍	0.05 – 25% Vol.%	0 – 10 (20)mg/L
準(zhǔn)確度:	± 0.02% oder < ±2% from value	± 0.05mg/l oder < ±2% from value
分辨率:	0.02%	<0.02mg/l
響應(yīng)時(shí)間:	< 1 s	Abh?ngig von der Schutzklasse typisch 3s – 30s
校準(zhǔn):	20° / 25° / 37° (additional temperatures optional)